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03

2026

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06

MEMS結構側壁垂直度不良，白光干涉儀研判微結構成型故障

側壁垂直度是MEMS微溝槽、懸臂梁等微結構的核心成型指標，直接決定器件鍵合精度、力學與電學性能。光刻、干法刻蝕等工序異常，易引發側壁傾斜、頂部擴口、底部縮徑等缺陷...

03

2026

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06

白光干涉儀在鈣鈦礦光伏激光劃線工藝的精密測量應用

一、鈣鈦礦光伏激光劃線死區損耗痛點鈣鈦礦光伏組件規模化量產中，P1-P2-P3激光劃刻工藝形成的溝槽區域為電池發電死區，僅承擔電路隔離與導通作用，無光電轉換能力，...

02

2026

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06

微透鏡表面粗糙度白光干涉解析及工藝優化方案

一、行業痛點與檢測瓶頸表面粗糙度是決定微透鏡透光率、抗散射性能與成像精度的核心指標，廣泛應用于半導體、精密光學領域的微透鏡，多通過注塑、模壓、納米壓印工藝成型。生...

02

2026

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06

白光干涉儀超光滑樣品微觀缺陷識別與晶圓檢測技術應用

一、超光滑樣品加工檢測痛點超光滑樣品廣泛應用于精密光學器件、半導體基底、激光傳輸元件等高端制造領域，其加工質量直接決定器件光學性能與服役壽命。樣品在研磨、拋光、清...

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