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        1. 新啟航半導(dǎo)體有限公司


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          12
          2026
          -
          05
          鏡筒定位面平面度對(duì)光學(xué)鏡片形變的白光干涉測(cè)量研究
          摘要光學(xué)鏡筒定位面平面度直接影響鏡片裝配精度,易引發(fā)鏡片微觀形變,進(jìn)而降低光學(xué)系統(tǒng)成像質(zhì)量。白光干涉測(cè)量技術(shù)憑借非接觸、納米級(jí)分辨率優(yōu)勢(shì),可精準(zhǔn)表征定位面平面度與...
          鏡筒定位面平面度對(duì)光學(xué)鏡片形變的白光干涉測(cè)量研究
          12
          2026
          -
          05
          基于白光干涉測(cè)量的微流控封裝平面度對(duì)芯片基底貼合性能研究
          摘要微流控芯片作為生物醫(yī)學(xué)檢測(cè)、化學(xué)分析等領(lǐng)域的核心精密器件,其封裝平面度直接決定芯片基底貼合緊密性,進(jìn)而影響流體流動(dòng)特性與檢測(cè)精度。白光干涉測(cè)量技術(shù)憑借非接觸、...
          基于白光干涉測(cè)量的微流控封裝平面度對(duì)芯片基底貼合性能研究
          11
          2026
          -
          05
          CMOS芯片共面度偏差,白光干涉測(cè)量解決倒裝、固晶受力不均
          引言CMOS芯片作為半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域的核心器件,共面度精度直接決定倒裝、固晶工序的穩(wěn)定性,共面度偏差會(huì)導(dǎo)致倒裝貼合錯(cuò)位、固晶受力不均,進(jìn)而引發(fā)芯片封裝失效、可靠性下...
          CMOS芯片共面度偏差,白光干涉測(cè)量解決倒裝、固晶受力不均
          11
          2026
          -
          05
          制程殘余應(yīng)力致CMOS芯片翹曲,白光干涉精準(zhǔn)測(cè)量方案
          引言CMOS芯片在光刻、蝕刻、封裝等制程中,易因工藝參數(shù)偏差、材料熱膨脹系數(shù)不匹配產(chǎn)生殘余應(yīng)力,進(jìn)而導(dǎo)致芯片翹曲,影響倒裝、固晶等后續(xù)工序穩(wěn)定性,引發(fā)封裝失效、信...
          制程殘余應(yīng)力致CMOS芯片翹曲,白光干涉精準(zhǔn)測(cè)量方案
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