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            新啟航半導(dǎo)體有限公司


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            01
            2026
            -
            06
            白光干涉儀高精度檢測(cè)技術(shù) 優(yōu)化光伏激光劃線量產(chǎn)良率
            一、光伏激光劃線工藝質(zhì)控痛點(diǎn)激光劃線是鈣鈦礦、晶硅薄膜等光伏電池單片互聯(lián)、P1/P2/P3結(jié)構(gòu)化制備的核心工序,直接決定組件串聯(lián)質(zhì)量與光電轉(zhuǎn)換性能[1]。受多層薄...
            白光干涉儀高精度檢測(cè)技術(shù) 優(yōu)化光伏激光劃線量產(chǎn)良率
            30
            2026
            -
            05
            微透鏡面形精度工藝異常依托白光干涉儀快速溯源整改、
            一、行業(yè)工藝痛點(diǎn)微透鏡是光學(xué)成像、光伏聚光、傳感模組的核心微型光學(xué)元件,其面形精度(Surface Figure)直接決定光學(xué)系統(tǒng)透光率、聚焦精度與成像品質(zhì)。量產(chǎn)...
            微透鏡面形精度工藝異常依托白光干涉儀快速溯源整改、
            30
            2026
            -
            05
            白光干涉儀(White Light Interferomet...
            一、行業(yè)檢測(cè)痛點(diǎn)分析超光滑樣品及超薄薄膜是半導(dǎo)體、光學(xué)器件、高端顯示面板的核心基礎(chǔ)材料,制備過(guò)程中易產(chǎn)生納米級(jí)雜質(zhì)凸起、膜厚不均、表面微劃痕、局部凹陷、膜層剝離等...
            白光干涉儀(White Light Interferometer, WLI)大視場(chǎng)(Large Field-of-View)測(cè)量在超光滑樣品工藝缺陷檢測(cè)中的應(yīng)用
            30
            2026
            -
            05
            白光干涉儀在鈣鈦礦電池激光刻蝕制程質(zhì)控中的精密檢測(cè)應(yīng)用
            一、鈣鈦礦電池激光刻蝕制程核心質(zhì)控痛點(diǎn)激光刻蝕是鈣鈦礦電池模組串并聯(lián)結(jié)構(gòu)制備的核心工序,P1、P2、P3多級(jí)溝槽的納米級(jí)深度精度,直接決定電池刻蝕品質(zhì)、膜層絕緣性...
            白光干涉儀在鈣鈦礦電池激光刻蝕制程質(zhì)控中的精密檢測(cè)應(yīng)用
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