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2026

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MEMS梳齒結(jié)構(gòu)線寬齒距失準(zhǔn)，白光干涉儀校準(zhǔn)光刻制程修正尺寸...

MEMS 慣性器件性能高度依賴梳齒電容尺寸精度，光刻量產(chǎn)受曝光能量波動(dòng)、晶圓平整度、掩模形變、顯影速率差異影響，普遍產(chǎn)生梳齒線寬偏移、齒距不均、側(cè)壁傾斜等尺寸失準(zhǔn)...

04

2026

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06

USI 白光掃描：透明金屬疊層結(jié)構(gòu)微納形貌失真原理溯源（US...

本文依據(jù)白光干涉儀官方技術(shù)手冊(cè)、半導(dǎo)體微納檢測(cè)國標(biāo)規(guī)范及《光學(xué)學(xué)報(bào)》《激光與光電子學(xué)進(jìn)展》公開核心研究成果，聚焦半導(dǎo)體透明介質(zhì)/金屬基底疊層微納結(jié)構(gòu)，溯源USI通...

04

2026

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06

基于光學(xué)3D輪廓儀深度標(biāo)定優(yōu)化光伏激光劃線與光電轉(zhuǎn)換效率研究

摘要光伏、鈣鈦礦等薄膜光電器件激光劃線深度偏差會(huì)誘發(fā)基底損傷、薄膜殘留、斷路等缺陷，直接制約器件光電轉(zhuǎn)換效率提升。傳統(tǒng)二維測(cè)量、人工抽檢無法實(shí)現(xiàn)微納劃線深度精準(zhǔn)質(zhì)...

04

2026

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06

白光干涉儀（White Light Interferomet...

一、引言超薄薄膜、超光滑樣品是半導(dǎo)體晶圓、精密光學(xué)元件、高能激光器件的核心基礎(chǔ)材料，其表面存在的納米級(jí)微劃痕、局部凹陷、顆粒凸起、薄膜厚度不均等微觀工藝缺陷，會(huì)直...

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