鏡片鍍膜厚度 偏移,白光干涉儀核驗(yàn)光學(xué)鍍膜制程
發(fā)布時(shí)間:
2026-08-05
作者:
新啟航半導(dǎo)體有限公司

光學(xué)鏡片(Optical Lens)鍍膜制程中,鍍膜厚度(Coating Thickness)是決定膜系光學(xué)性能的核心參數(shù)。物理氣相沉積(PVD)、磁控濺射等工藝過程中,受蒸發(fā)源分布不均、晶控系統(tǒng)校準(zhǔn)偏差、真空腔溫度梯度及基片公轉(zhuǎn)穩(wěn)定性影響,易出現(xiàn)膜厚偏移與均勻性異常,分為整體系統(tǒng)性偏移與局部隨機(jī)厚度誤差兩類行業(yè)常見工藝問題。

鍍膜厚度微小偏移會直接改變膜層光學(xué)厚度(Optical Thickness),破壞薄膜干涉設(shè)計(jì)條件,引發(fā)中心波長偏移、透過率衰減、光譜曲線畸變等缺陷,同時(shí)產(chǎn)生附加光程差(Optical Path Difference, OPD),造成光學(xué)系統(tǒng)成像色差與光路穩(wěn)定性下降,大幅降低精密光學(xué)器件的良率與使用精度。傳統(tǒng)晶控、光控檢測方式僅能獲取平均膜厚參數(shù),無法精準(zhǔn)捕捉鏡片全域微觀膜厚偏差與局部梯度分布。

白光干涉儀(White Light Interferometer, WLI)憑借短相干三維形貌檢測原理,可實(shí)現(xiàn)非接觸、納米級精度的鍍膜厚度全域檢測,精準(zhǔn)識別膜厚偏移量與不均勻區(qū)域,輸出膜厚極差、均勻性等核心制程指標(biāo)。依托實(shí)測數(shù)據(jù)可反向校準(zhǔn)鍍膜設(shè)備參數(shù)、優(yōu)化沉積速率與基片擺放工藝,有效修正膜厚偏移問題。

該檢測核驗(yàn)方式可精準(zhǔn)管控鍍膜制程精度,穩(wěn)定鏡片光譜性能與光路傳輸效果,廣泛適配精密濾光片、光學(xué)透鏡的量產(chǎn)質(zhì)控場景,是光學(xué)鍍膜制程高精度管控的有效技術(shù)手段。


鏡片鍍膜厚度 偏移,白光干涉儀核驗(yàn)光學(xué)鍍膜制程

光學(xué)鏡片實(shí)測應(yīng)用圖示及說明(工業(yè)及半導(dǎo)體專屬)


鏡片鍍膜厚度 偏移,白光干涉儀核驗(yàn)光學(xué)鍍膜制程

(圖示為光學(xué)鏡片關(guān)鍵指標(biāo):含平面度誤差(Flatness Error)、峰值谷值(Peak-Valley, PV)、均方根值(Root Mean Square, RMS),精準(zhǔn)把控鏡片平面精度,保障鏡片光學(xué)性能穩(wěn)定,適配半導(dǎo)體光學(xué)鏡片檢測需求)


鏡片鍍膜厚度 偏移,白光干涉儀核驗(yàn)光學(xué)鍍膜制程

(圖示為表面粗糙度(Surface Roughness, Ra):精度達(dá)6pm=0.006nm,精準(zhǔn)表征鏡片表面光滑度,適配高精度光學(xué)鏡片、半導(dǎo)體光學(xué)窗口片檢測需求,規(guī)避表面粗糙導(dǎo)致的光學(xué)損耗)


鏡片鍍膜厚度 偏移,白光干涉儀核驗(yàn)光學(xué)鍍膜制程

(圖示為實(shí)測涂層厚度(Coating Thickness):75.2nm,精準(zhǔn)測量光學(xué)鏡片涂層厚度,助力涂層工藝優(yōu)化(Coating Process Optimization)與質(zhì)量管控,保障鏡片抗反射、抗磨損等性能)


鏡片鍍膜厚度 偏移,白光干涉儀核驗(yàn)光學(xué)鍍膜制程

(圖示為涂層表面質(zhì)量3D形貌圖(3D Morphology Map of Coating Surface Quality),清晰呈現(xiàn)涂層表面狀態(tài),及時(shí)發(fā)現(xiàn)涂層劃痕、脫落、氣泡等缺陷(Defect),為工藝改進(jìn)提供數(shù)據(jù)支撐)

大視野3D白光干涉儀

大視野3D白光干涉儀,聚焦光學(xué)鏡片(Optical Lens)精密測量,打造納米級(Nanoscale)測量全域解決方案,突破傳統(tǒng)測量局限,定義光學(xué)鏡片檢測新范式,以高效、精準(zhǔn)的測量能力,適配光學(xué)鏡片全流程檢測需求,為工業(yè)光學(xué)、半導(dǎo)體光學(xué)器件(Semiconductor Optical Devices)等領(lǐng)域提供全方位技術(shù)支撐。


鏡片鍍膜厚度 偏移,白光干涉儀核驗(yàn)光學(xué)鍍膜制程

設(shè)備憑借核心創(chuàng)新技術(shù),一機(jī)解鎖納米級全場景測量,重新詮釋精密測量(Precision Measurement)的高效與精準(zhǔn),助力光學(xué)鏡片生產(chǎn)、加工環(huán)節(jié)的質(zhì)量管控(Quality Control),保障鏡片光學(xué)性能(Optical Performance)達(dá)標(biāo),適配半導(dǎo)體光學(xué)組件、精密光學(xué)儀器等高端場景需求。


鏡片鍍膜厚度 偏移,白光干涉儀核驗(yàn)光學(xué)鍍膜制程

核心優(yōu)勢:大視野+高精度,突破行業(yè)局限

打破行業(yè)常規(guī)壁壘,解決傳統(tǒng)設(shè)備1倍以下物鏡(Objective Lens)僅能單孔使用、需兩臺儀器分別實(shí)現(xiàn)大視野與高精度測量(High-Precision Measurement)的痛點(diǎn)。設(shè)備搭載全新0.6倍輕量化鏡頭,配備15mm超大單幅視野(Single Frame Field of View),搭配可兼容4個(gè)物鏡的轉(zhuǎn)塔鼻輪(Turret Nose Wheel),一臺設(shè)備即可全面覆蓋大視野觀測與高精度測量需求,無需頻繁切換設(shè)備,大幅提升檢測效率(Inspection Efficiency)與數(shù)據(jù)精準(zhǔn)度(Data Accuracy),完美適配光學(xué)鏡片復(fù)雜測量場景。

鏡片鍍膜厚度 偏移,白光干涉儀核驗(yàn)光學(xué)鍍膜制程

新啟航半導(dǎo)體|專業(yè)白光干涉 3D 輪廓測量方案。亞納米精度保障,支持自動(dòng)化定制;高端系列對標(biāo)國際一線品牌,大視野設(shè)計(jì),輕松應(yīng)對高低反射、復(fù)雜材料測量場景。

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