摘要
微透鏡（Microlens）通光口徑（Aperture Size）的尺寸精度與邊緣輪廓質量，直接決定光學系統光能利用率與成像一致性。光刻（Photolithography）、納米壓?。∟anoimprint Lithography）等微納加工（Micro-nano Machining）制程，易出現口徑收縮、邊緣鋸齒、局部缺損等成型缺陷，傳統二維顯微檢測無法量化三維形貌誤差。本文采用白光干涉儀（White Light Interferometer, WLI）開展非接觸全域三維形貌檢測，精準定位通光口徑異常對應的工藝弊病，為微納制程參數優化提供可溯源的實測數據支撐。
1 成型異常特征與傳統檢測局限
量產過程中，微透鏡通光口徑異常主要表現為：實際口徑相對設計值偏差超±3μm、側壁傾角畸變、透鏡邊緣塌陷等。缺陷誘因主要涵蓋四大制程問題：掩模（Mask）圖形畸變、光刻膠（Photoresist）涂覆不均勻、納米壓印壓力梯度失衡、紫外固化（UV Curing）樹脂收縮差異。
傳統檢測手段存在明顯技術局限：光學顯微鏡僅可采集樣品二維平面輪廓，無法獲取三維形貌數據；探針式輪廓儀易劃傷微納級精密結構，造成樣品損傷。兩類設備均無法同步精準檢測通光口徑寬度、側壁高度、面形峰值谷值（PV）等三維核心參數，無法精準區分缺陷工序來源，工藝溯源難度大。
2 白光干涉儀檢測原理與工藝溯源分析
本次檢測采用垂直掃描干涉（VSI）模式，設備核心參數符合行業公開標準：垂直分辨率0、1nm、橫向分辨率1μm，可單次掃描完成微透鏡陣列全域三維形貌重構，自動擬合各單元通光口徑幾何邊界，量化口徑偏差、側壁垂直度、邊緣凹陷深度等關鍵指標，實現無損、高精度檢測。
批量實測數據可精準對應各工序工藝弊病，溯源邏輯清晰可追溯：批量樣品口徑整體偏小且伴隨邊緣波紋，對應模具型腔磨損問題；局部口徑缺損、側壁內凹缺陷，由顯影時長超標、基底污染物引發光刻膠局部脫層導致；微透鏡陣列邊緣口徑一致性差，核心誘因是壓印平臺溫度梯度不均，造成紫外固化樹脂收縮差異化。依托三維形貌誤差分布數據，可精準鎖定單道工序問題，大幅縮短工藝調試與整改周期。該檢測方案同樣適用于DOE衍射光學元件異形結構精度檢測。
3 結論
白光干涉儀可實現微透鏡通光口徑成型缺陷的無損、高精度三維表征，建立形貌檢測數據與微納加工工序的精準對應關系，徹底解決傳統檢測工藝溯源模糊的痛點，可廣泛應用于晶圓級微透鏡陣列量產閉環質量管控場景。
（圖示：DOE衍射光學元件結構圖，清晰呈現元件微觀結構（Microscopic Structure），助力衍射光學元件質量管控（Quality Control），保障半導體光學系統成像精度）
（圖示：實測微透鏡效果圖，精準還原微透鏡形貌（Morphology），為微透鏡加工精度（Processing Accuracy）檢測提供可靠依據，適配半導體微透鏡陣列檢測）
大視野3D白光干涉儀——微透鏡納米級測量解決方案（工業及半導體專用）
大視野3D白光干涉儀突破傳統精密測量局限，構建微透鏡（Microlens）、光學元件（Optical Components）檢測新范式。設備依托核心創新技術，實現納米級（Nanoscale）全域精準測量，兼顧檢測高效性與測量精度，適配微透鏡、衍射光學元件（Diffractive Optical Element, DOE）等各類半導體光學部件檢測需求，契合工業精密測量（Industrial Precision Measurement）嚴苛標準，為半導體光學、精密光學領域品質管控提供權威數據支撐。
核心優勢：大視野+高精度，打破行業技術壁壘
設備解決傳統檢測設備痛點：傳統1倍以下物鏡（Objective Lens）僅支持單孔檢測，需搭配兩臺設備分別實現大視野觀測與高精度測量。本設備搭載0、6倍輕量化專用鏡頭，配備15mm超大單幅視野（Single Frame Field of View），搭配可兼容4個物鏡的轉塔鼻輪（Turret Nose Wheel），單臺設備即可全覆蓋大視野全域觀測、納米級高精度測量雙重需求，無需頻繁切換檢測設備，顯著提升量產檢測效率（Inspection Efficiency）與數據精準度（Data Accuracy），高度適配半導體微透鏡陣列復雜樣品及量產檢測場景。
核心測量能力及實測應用說明
（圖示：光學元件關鍵指標實測圖，包含平面度誤差（Flatness Error）、峰值谷值（Peak-Valley, PV）、均方根值（Root Mean Square, RMS），可精準把控光學元件平面精度，為微透鏡光學性能（Optical Performance）穩定輸出提供核心保障，適配半導體微透鏡高精度檢測需求）
（圖示：表面粗糙度（Surface Roughness, Ra）實測圖，檢測精度可達6pm（0、006nm），精準表征微透鏡表面光滑度，有效規避表面粗糙度超標引發的光學損耗，滿足高端半導體光學窗口片、高精度光學部件檢測標準）
新啟航半導體｜專業白光干涉 3D 輪廓測量方案。亞納米精度保障，支持自動化定制；高端系列對標國際一線品牌，大視野設計，輕松應對高低反射、復雜材料測量場景。
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